特許

J-GLOBAL ID：200903052412329568

エノン類の不斉エポキシ化反応用錯体触媒、及びそれを用いた光学活性エポキシドの製造方法

発明者： 香川 巧
出願人/特許権者： 東ソー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-052148
公開番号（公開出願番号）：特開2001-232211
出願日： 2000年02月23日
公開日（公表日）： 2001年08月28日
要約：

【要約】【課題】 高反応性、高収率かつ高光学純度を与えるエノン類の不斉エポキシ化触媒を提供する。【解決手段】 エノン類の不斉エポキシ化反応において、(R)-ビナフトール、希土類元素イソプロポキシド、トリフェニルフォスフィンオキサイド、並びにクメンハイドロパーオキサイド又はターシャリーブチルハイドロパーオキサイドからなる錯体触媒を用いる。

請求項（抜粋）：

(A)光学活性ビナフトール、(B)ランタントリイソプロポキシド、(C)トリフェニルフォスフィンオキサイド、並びに(D)クメンハイドロパーオキサイド又はターシャリーブチルハイドロパーオキサイドからなるエノン類の不斉エポキシ化反応用錯体触媒。

IPC (5件)：

B01J 31/24 ,  C07D301/19 ,  C07D303/32 ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00

FI (5件)：

B01J 31/24 Z ,  C07D301/19 ,  C07D303/32 ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00

Fターム (28件)：

4C048AA01 ,  4C048BB15 ,  4C048CC01 ,  4C048UU01 ,  4C048UU02 ,  4C048UU03 ,  4C048XX02 ,  4C048XX05 ,  4G069AA06 ,  4G069BA27A ,  4G069BA27B ,  4G069BC42A ,  4G069BC42B ,  4G069BE05A ,  4G069BE05B ,  4G069BE06A ,  4G069BE06B ,  4G069BE27A ,  4G069BE27B ,  4G069BE37A ,  4G069BE37B ,  4G069CB07 ,  4G069CB57 ,  4G069CB73 ,  4G069DA02 ,  4G069EC27 ,  4H039CA63 ,  4H039CC40