特許

J-GLOBAL ID：200903052413267787

レジスト組成物

発明者： 浦野 文良 ,  藤江 啓利 ,  根岸 孝明
出願人/特許権者： 和光純薬工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-352756
公開番号（公開出願番号）：特開平5-165219
出願日： 1991年12月16日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】 一般式(1)[式中、R1、R2、R3は夫々独立して水素原子、炭素数1〜4の直鎖状又は分岐状のアルキル基等、又は-(CH2)qCOOR6(但し、R6は水素原子、炭素数1〜6の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、又はアラルキル基を表し、qは1〜3の整数を表す。)を表し(但し、R1、R2、R3が共に水素原子の場合は除く。)、nは6〜9の整数を表す。]で示されるシクロデキストリン誘導体を含んで成ることを特徴とする化学増幅型フォトレジスト組成物。【効果】 本発明に係るシクロデキストリン誘導体を含む本発明のレジスト組成物を300nm以下の光源、例えば遠紫外光(Deep UV)、例えばKrFエキシマレーザ光(248.4nm)等の露光用レジスト組成物として用いた場合には、露光から加熱処理までの時間経過に対しても安定したパターン寸法の維持が可能な、実用的なサブミクロンオーダーの形状の良い微細なパターンが容易に得られる。

請求項（抜粋）：

(i)酸の共存下、加熱により化学変化を受けてアルカリ可溶性となる官能基を有するモノマー単位と、フェノール性水酸基を有するモノマー単位と、要すれば第三のモノマー単位とから構成される重合体と、(ii)露光又は照射により酸を発生する感光性化合物と、(iii)これらを溶解可能な溶剤と、(iv)下記一般式(1)【化1】[式中、R1、R2、R3は夫々独立して水素原子、炭素数1〜4の直鎖状又は分岐状のアルキル基、-(CH2)m-[CH(OR4)]p-OR5(但し、R4及びR5は夫々独立して炭素数1〜4の直鎖状又は分岐状のアルキル基を表し、mは1〜4の整数を表し、pは0又は1の整数を表す。)、又は-(CH2)qCOOR6(但し、R6は水素原子、炭素数1〜6の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、又はアラルキル基を表し、qは1〜3の整数を表す。)を表し(但し、R1、R2、R3が共に水素原子の場合は除く。)、nは6〜9の整数を表す。]で示されるシクロデキストリン誘導体と、を含んで成ることを特徴とするフォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027