特許
J-GLOBAL ID：200903052414007347
X線マスクおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-080906
公開番号（公開出願番号）：特開平11-283897
出願日： 1998年03月27日
公開日（公表日）： 1999年10月15日
要約：
【要約】【課題】 X線マスクウエハとサポートリング7とを接着することに基づく転写の際のパターンの寸法精度の劣化を防止できるX線マスクおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 シリコン基板1と、メンブレン2と、反射防止膜3と、X線吸収体4と、エッチマスク5と、レジスト6とを有するX線マスクウエハが、接着剤8を介在してサポートリング7に万力11によって押し付けられた状態でレジスト6がベークされる。
請求項（抜粋）：
X線を透過する材質よりなるマスク基板と、前記マスク基板上に形成されかつX線を吸収する材質よりなるX線吸収体パターンと、前記マスク基板を支持する支持体とを有するX線マスクウエハと、前記X線マスクウエハの前記支持体に2箇所または3箇所で接着された補強枠とを備えた、X線マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 531 M
, G03F 1/16 A
