特許
J-GLOBAL ID：200903052421984722
真空蒸着装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西田 新
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-202306
公開番号（公開出願番号）：特開平6-049641
出願日： 1992年07月29日
公開日（公表日）： 1994年02月22日
要約：
【要約】【目的】 同時に複数個の蒸着サンプルの光学的膜厚制御を正確に行うことのできる真空蒸着装置を提供する。【構成】 真空チャンバ内の複数のサンプルホルダごとに、モニタ基板を装着するためのモニタ用基板装着部と、真空チャンバ内に配設されて上記モニタ用基板にレーザ光を照射するレーザ光源と、そのレーザ光源の照射により得られるモニタ用基板からの反射光を真空チャンバの窓を介してチャンバ外の受光センサに導く光学系と、サンプルホルダ上の蒸着サンプルへの蒸着を停止させるためのシャッタを設ける。
請求項（抜粋）：
真空チャンバ内に複数個のサンプルホルダを備えた真空蒸着装置において、上記各サンプルホルダごとに、モニタ用基板を各ホルダ近傍の真空チャンバ内に装着するためのモニタ用基板装着部と、真空チャンバ内に配設され、上記モニタ用基板にレーザ光を照射するレーザ光源と、そのレーザ光の照射により得られるモニタ用基板からの反射光を真空チャンバに形成された窓を介して当該チャンバ外に設けられた受光センサに導く光学系と、サンプルホルダ上のサンプルへの蒸着を停止させるためのシャッタと、が設けられていることを特徴とする真空蒸着装置。
IPC (3件)：
C23C 14/54
, C23C 14/28
, H01L 21/203
