特許
J-GLOBAL ID：200903052437710991
位置合わせ装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田辺 恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-342439
公開番号（公開出願番号）：特開平5-152190
出願日： 1991年11月30日
公開日（公表日）： 1993年06月18日
要約：
【要約】【目的】本発明は、位置合わせ装置に関し、例えば半導体製造工程で使用される縮小投影露光装置において、ウエハ及びレチクルが共役な位置に保持されている場合でも、確実に位置ずれを検出する。【構成】本発明は、2組のレーザ光ビームを被測定対象に照射することにより、被測定対象が共役の関係に保持されている場合等でも、確実に当該被測定対象の位置ずれ量を検出し得る。
請求項（抜粋）：
第1光源を含み、第1基板上に形成された回折格子を照射するために所定角度で交差する2本の第1ビームを生成する第1のビーム発生手段と、第2光源を含み、第2基板上に形成された回折格子を照射するために所定角度で交差する2本の第2ビームを生成する第2のビーム発生手段と、上記2本の第1ビーム及び上記2本の第2ビームとの各々を、対物光学系の瞳面又はその近傍の面内で所定間隔だけ離して通すことによつて上記2本の第1ビーム及び上記2本の第2ビームをそれぞれ上記第1基板及び第2基板に照射するビーム照射手段と、上記2本の第1ビームの照射によつて上記回折格子からほぼ同一方向に発生する回折光同士の第1の干渉光と、上記2本の第2ビームの照射によつて上記回折格子からほぼ同一方向に発生する回折光同士の第1の干渉光とを独立に受光し、上記第1及び第2の干渉光の強度に応じた第1及び第2の光電信号を出力する光電検出手段と、上記第1及び第2の光電信号に基づいて、上記第1基板及び第2基板間の位置ずれを検出する位置ずれ検出手段とを具えることを特徴とする位置合わせ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G01B 11/00
, G03F 9/00
