水素ガス生成装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：五十嵐孝雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-347856
公開番号（公開出願番号）：特開2002-154803
出願日： 2000年11月15日
公開日（公表日）： 2002年05月28日
要約：

【要約】【課題】ケミカルハイドライドと呼ばれる金属水素化物を用いて生成される水素ガスの純度を向上する。【解決手段】金属水素化物を反応器で加水分解する。生成された水素、水、金属含有生成物の混合物から、分離器10によって不純物を分離する。分離器内では、混合物の流速を低下させて不純物を落下させるとともに、生成物を沈殿させて水と生成物の分離を行う。上澄みの水は、回収され加水分解に再利用される。分離器内の温度を低下させることによって、溶解している生成物を析出させてもよい。分離器の作用によって、生成される水素ガスの水素純度を向上することができる。併せて、水の再利用によって、水タンク容積の低減、装置の小型化を図ることができる。

請求項（抜粋）：

金属水素化物から金属含有生成物と水素とを生成する加水分解反応または熱分解反応を利用して、水素ガスを生成する水素ガス生成装置であって、前記分解反応を行う反応器と、前記反応によって生成された混合物から前記金属含有生成物の少なくとも一部を除去することにより水素ガスの純度を向上する不純物除去手段とを備える水素ガス生成装置。

IPC (7件)：

C01B 3/04 , C01B 3/06 , C01B 3/50 , H01M 8/00 , H01M 8/04 , H01M 8/06 , H01M 8/10

FI (7件)：

C01B 3/04 Z , C01B 3/06 , C01B 3/50 , H01M 8/00 Z , H01M 8/04 J , H01M 8/06 R , H01M 8/10

Fターム (20件)：

4G040FA02 , 4G040FB01 , 4G040FB02 , 4G040FC04 , 4G040FC08 , 4G040FC09 , 4G040FE01 , 4G140FA02 , 4G140FB01 , 4G140FB02 , 4G140FC04 , 4G140FC08 , 4G140FC09 , 4G140FE01 , 5H026AA04 , 5H026AA06 , 5H027AA04 , 5H027AA06 , 5H027BA14 , 5H027BA16

引用特許：

審査官引用 (9件)

発電装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-077270 出願人：三菱重工業株式会社
高純度水素発生方法及び薬莢
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-245336 出願人：株式会社日本製鋼所
水素ガス等の製造方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-366377 出願人：三菱マテリアル株式会社

全件表示

前のページに戻る