特許
J-GLOBAL ID：200903052440991853
アクティブマトリックス基板とその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-233748
公開番号（公開出願番号）：特開平9-080476
出願日： 1995年09月12日
公開日（公表日）： 1997年03月28日
要約：
【要約】【課題】 液晶表示装置を通り抜けた透過光が、光学系に用いられるレンズのレンズ面において反射し、それにより、反射光がアクティブマトリックス基板の裏面から薄膜トランジスタに照射されてしまい、光励起によるオフ電流が増加し、表示画像のコントラストの低下を引き起こしてしまう。【解決手段】 薄膜トランジスタ2上に薄膜トランジスタ2に対して照射される光を遮る第1の遮光膜7と、透明絶縁基板1の裏面における透明絶縁基板1を挟んで第1の遮光膜7と対向する位置に薄膜トランジスタ2に対して照射される光を遮る第2の遮光膜11とを設ける。
請求項（抜粋）：
走査線及び信号線が設けられた透明絶縁基板上に薄膜トランジスタが形成されたアクティブマトリックス基板において、前記薄膜トランジスタ上に形成され、前記薄膜トランジスタに対して照射される光を遮る第1の遮光膜と、前記透明絶縁基板の裏面における前記透明絶縁基板を挟んで前記第1の遮光膜と対向する位置に形成され、前記薄膜トランジスタに対して照射される光を遮る第2の遮光膜とを有し、前記透明絶縁基板の裏面における前記第2の遮光膜が形成される部分が粗面であることを特徴とするアクティブマトリックス基板。
IPC (3件)：
G02F 1/136 500
, H01L 27/12
, H01L 29/786
G02F 1/136 500
, H01L 27/12 A
, H01L 29/78 619 B
