特許

J-GLOBAL ID：200903052462210081

塗布装置及び塗布方法

発明者： 稲田 博一 ,  林 伸一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 金本 哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-309091
公開番号（公開出願番号）：特開2002-118051
出願日： 2000年10月10日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
要約：

【要約】【課題】 レジスト塗布装置におけるケーシング内及びカップ内の雰囲気制御をより容易に行う。【解決手段】 カップ61下部に,カップ61内の雰囲気を排気する第1排気管62と当該第1排気管62の排気流量を調節する第1ダンパ64を設ける。ケーシング17aの下部に,ケーシング17a内の雰囲気を排気する第2排気管63と,当該第2排気管63の排気流量を調節する第2ダンパ84を設ける。第1排気管62の下流側は,第2排気管63における第2ダンパ84の上流側に接続する。そして,レジスト塗布処理中は,第1ダンパ64を調節してカップ61内の不純物がカップ61外に流出しないような流量でカップ61内の雰囲気を排気し,第2ダンパ84を調節してケーシング17a内の気圧が陽圧になるような流量でケーシング17a内の雰囲気を排気する。

請求項（抜粋）：

ケーシング内の容器内に位置する基板に塗布液を塗布する塗布装置において,前記ケーシング内に所定の気体を供給する供給装置と,前記容器内の雰囲気を排気する第1の排気管と,前記ケーシング内の雰囲気を排気する第2の排気管とを有し,前記第1の排気管には,当該第1の排気管内を通過する雰囲気の流量を調節する第1の調節装置が設けられ,前記第2の排気管には,当該第2の排気管内を通過する雰囲気の流量を調節する第2の調節装置が設けられていることを特徴とする,塗布装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  B05D 3/12 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/16 502

FI (6件)：

B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  B05D 3/12 A ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 564 C

Fターム (28件)：

2H025AB16 ,  2H025EA04 ,  2H025EA05 ,  4D075AC64 ,  4D075AC73 ,  4D075AC79 ,  4D075AC95 ,  4D075BB57Y ,  4D075BB93Y ,  4D075CA47 ,  4D075DA08 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EA07 ,  4D075EA45 ,  4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042EB06 ,  4F042EB09 ,  4F042EB13 ,  4F042EB18 ,  4F042EB24 ,  5F046JA02 ,  5F046JA05 ,  5F046JA06 ,  5F046JA07 ,  5F046JA08 ,  5F046JA13

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 回転式基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-323839   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• レジスト塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-031248   出願人：東京エレクトロン株式会社