特許

J-GLOBAL ID：200903052465929648

合成皮革

発明者： 小山 正興 ,  渡辺 智也
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 一雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-195553
公開番号（公開出願番号）：特開平5-005280
出願日： 1991年08月05日
公開日（公表日）： 1993年01月14日
要約：

【要約】【目的】 耐候性、低温風合、耐加水分解性に優れた合成皮革を得ること。【構成】 C4,5-PCDL、C4,6-PCDL、C5,6-PCDL/ジイソシアネート/鎖延長剤よりなるポリウレタンで形成される合成皮革。

請求項（抜粋）：

基材表面に、厚さ10〜200μのポリウレタン接着層、厚さ20〜100μのポリウレタン皮膜層が順次積層されてなる合成皮革で、?@ ポリウレタン接着層が、100%モジュラス5〜100kg/cm2 のポリエーテル系二液型ポリウレタンあるいは非晶性ポリカーボネート系二液型ポリウレタンの一種又は二種以上で形成され、?A ポリウレタン皮膜層が、100%モジュラス20〜200kg/cm2 の非晶性ポリカーボネート系ポリウレタンで形成されている、ことを特徴とする合成皮革。

IPC (4件)：

D06N 3/14 101 ,  B32B 27/12 ,  B32B 27/40 ,  B32B 31/18