特許

J-GLOBAL ID：200903052486613110

フォトマスクの撓み矯正装置およびその方法

発明者： 平 渡 紀 行 ,  小 林 力 ,  鈴 木 昭 夫 ,  渡 部 國 輝
出願人/特許権者： 株式会社オーク製作所
代理人 (1件)： 磯野 道造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-010668
公開番号（公開出願番号）：特開平7-219212
出願日： 1994年02月01日
公開日（公表日）： 1995年08月18日
要約：

【要約】【目的】構成が簡単で、水平方向に設置したフォトマスクが的確に水平精度を保つことができ、確認が各ワーク毎にでき、既存の露光作業の流れの中で水平精度の維持を行うことができるフォトマスクの撓み矯正装置およびその方法。【構成】紫外線を照射してワークに所定のパターンを露光するフォトマスクの水平精度の矯正装置1であって、前記フォトマスクPの少なくとも2個所に位置決めマークが設けられ、このフォトマスクPの少なくとも一面側を空密に保持する囲繞部2と、この囲繞部2内の圧力を調整する圧力調整手段3と、前記フォトマスクPの位置決めマークを撮像する撮像手段4と、この撮像手段4からの撮像情報を処理し前記圧力調整手段3を制御する制御部5とから構成され、前記囲繞部2は、フォトマスクPと対面する位置に透光板2bを設けたフォトマスクの撓み矯正装置。

請求項（抜粋）：

紫外線を照射してワークに所定のパターンを露光するフォトマスクの水平精度の矯正装置であって、前記フォトマスクの少なくとも2個所に位置決めマークが設けられ、このフォトマスクの少なくとも一面側を空密に保持する囲繞部と、この囲繞部内の圧力を調整する圧力調整手段と、前記フォトマスクの位置決めマークを撮像する撮像手段と、この撮像手段からの撮像情報を処理し前記圧力調整手段を制御する制御部とから構成され、前記囲繞部は、フォトマスクと対面する位置に透光板を設けたことを特徴とするフォトマスクの撓み矯正装置。

IPC (5件)：

G03F 1/14 ,  G03B 27/32 ,  G03B 27/53 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

• フォトマスク平面性維持装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-083976   出願人：株式会社ニコン
• 特開平3-152540
  
• パターン位置測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-153996   出願人：株式会社ニコン
• 特開昭63-104420