特許

J-GLOBAL ID：200903052494680276

ジニトロ-ポリアルキルベンゼン類の製造方法

発明者： ハインツ-ウルリヒ・ブランク ,  ベルント-ミヒヤエル・ケーニヒ
出願人/特許権者： バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
代理人 (1件)： 小田島 平吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-172018
公開番号（公開出願番号）：特開平6-056749
出願日： 1993年06月21日
公開日（公表日）： 1994年03月01日
要約：

【要約】【目的】 ジニトロ-ポリアルキルベンゼン類の製造方法。【構成】 H2SO4の存在下HNO3を用い、このH2SO4の少なくとも50%を反応媒体として存在させるようにし、そしてHNO3とポリアルキルベンゼンと残りの如何なるH2SO4も、この添加物質であるポリアルキルベンゼンとHNO3が1:2-10のモル比で存在するように同時添加する、ポリアルキルベンゼン類のニトロ化で、ジニトロ-ポリアルキルベンゼン類を製造することができる。H2SO4を81から96重量%の濃度で用い、そしてHNO3を95から100重量%の濃度で用いる。処理する目的で、最初に、このジニトロ-ポリアルキルベンゼン類から該酸類の大部分を除去した後、高希釈度の分散剤水溶液で処理することにより、残存する酸を分離除去する。

請求項（抜粋）：

a)有機溶媒を一緒に用いることなく、H2SO4を、ポリアルキルベンゼン1モル当たり180から1000g、好適には200から500g、特に好適には250から350gの量でそして81から96重量%、好適には85から94重量%、特に好適には89から93重量%の濃度で導入するが、ここで、このH2SO4量の少なくとも30%、好適には少なくとも50%を反応媒体として導入し、b)ポリアルキルベンゼン、95から100重量%濃度のHNO3、およびもしあれば残りのH2SO4を、この添加中の添加物質であるポリアルキルベンゼンとHNO3が1:2-10、好適には1:2.5-5、特に好適には1:2.7-3.5のモル比になるように、0から60°C、好適には15から40°C、特に好適には20から35°Cの範囲で同時に仕込み、c)この添加後、この反応混合物を、更に一層の反応を行う目的で10から70°C、好適には30から60°C、特に好適には40から55°Cに維持し、そしてd)処理してジニトロ-ポリアルキルベンゼンを得る、ことを特徴とする、H2SO4の存在下、HNO3を用い、式【化1】[式中、R1からR4は、下記の意味を有する]を有するポリアルキルベンゼン類をニトロ化し、この反応中に固体を生じさせる、式【化2】[式中、R1およびR2は、互いに独立して、直鎖もしくは分枝C1-C8-アルキルを表し、R3は、水素、直鎖もしくは分枝C1-C4-アルキルを表し、そしてR4は、水素、直鎖もしくは分枝C1-C4-アルキル、塩素または臭素を表し、ここで、塩素または臭素が存在していない場合、該アルキルC原子の全数は少なくとも4である]を有するジニトロ-ポリアルキルベンゼン類の製造方法。

IPC (2件)：

C07C205/06 ,  C07C201/08