特許

J-GLOBAL ID：200903052501910835

全反射蛍光X線分析装置

発明者： 新井 智也 ,  庄司 孝
出願人/特許権者： 理学電機工業株式会社
代理人 (1件)： 杉本 修司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-037568
公開番号（公開出願番号）：特開平6-082400
出願日： 1993年02月01日
公開日（公表日）： 1994年03月22日
要約：

【要約】【目的】 全反射蛍光X線分析において、X線を分光する際の強度の低下を防止することで、回折X線の強度を強くして、分析精度の向上を図る。【構成】 X線源PからのX線を人工多層膜格子1により単色化するとともに、試料2に微小な入射角αで入射させる。人工多層膜格子1は、X線源Pから入射角θN で入射したX線B1を反射面1aにおいて、回折角θN で回折して単色化する。この人工多層膜格子1における格子面間隔の周期は、反射面1aの表面に沿って連続的に大きくなるように設定されている。上記周期は、X線源Pとの関係では、X線源Pから矢印10のように遠ざかるに従い大きく設定する。

請求項（抜粋）：

X線源からのX線を分光素子で回折させて単色化した一次X線を試料表面に向って集光させるとともに上記一次X線を微小な入射角で試料表面に照射する照射装置と、上記試料表面に対向し上記一次X線を受けた試料からの蛍光X線を検出するX線検出器とを備え、このX線検出器での検出結果に基づいて上記蛍光X線を分析する全反射蛍光X線分析装置において、上記分光素子が人工多層膜格子からなり、この人工多層膜格子における格子面間隔の周期が、人工多層膜格子の反射面の表面に沿って上記X線源から遠ざかるに従い連続的に大きく設定されていることを特徴とする全反射蛍光X線分析装置。