特許

J-GLOBAL ID：200903052509591020

露光装置,露光装置の調整方法,マイクロデバイスの製造方法

発明者： 後藤 明弘
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 亀谷 美明 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-091719
公開番号（公開出願番号）：特開2002-289505
出願日： 2001年03月28日
公開日（公表日）： 2002年10月04日
要約：

【要約】【課題】 干渉ノイズを低減して露光均一性を向上可能な露光装置,露光均一性を高めた状態で高精度に効率良く調整可能な露光装置の調整方法,及び製品の歩留まりを向上可能なマイクロデバイスの製造方法を提供すること。【解決手段】 マスク17とウエハ19とを相対的に走査させ,パルス状の露光光を用いた走査型の露光装置において,ウエハ19上に発生する不均一な光強度分布の周期Pに対して,露光光の1パルス毎の基板の走査量ΔLを異ならせしめるように,ステージ制御系C3の指令に基づき駆動系D7,D8によりマスク17とウエハ19とを相対的に走査させる。また,光遅延光学系2により露光光を複数に分割して分割光を生成すると共に前記分割光間に所定の光路長差を付与する。さらに振動ミラー4を用いて露光光を所定方向に沿って走査させる。

請求項（抜粋）：

マスクと基板とを相対的に走査させつつ,前記マスクに形成されたパターンを前記基板上に露光する露光装置であって,パルス状の露光光を前記マスクへ導く照明光学系と,前記マスクを保持するマスク保持手段と,前記パターンの像を前記基板上に投影する投影光学系と,前記基板を保持する基板保持手段と,前記マスクと前記基板とを相対的に走査させる駆動手段と,前記基板上に発生する不均一な光強度分布の周期に対して,前記露光光の1パルス毎の前記基板の走査量を異ならせしめるように,前記駆動手段を制御する制御手段と,を有することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G02B 19/00 ,  G03F 7/22

FI (4件)：

G02B 19/00 ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 516 Z ,  H01L 21/30 518

Fターム (11件)：

2H052BA02 ,  2H052BA03 ,  2H052BA09 ,  2H052BA12 ,  5F046BA05 ,  5F046BA07 ,  5F046BA08 ,  5F046CA04 ,  5F046CB25 ,  5F046DA02 ,  5F046DA12