特許

J-GLOBAL ID：200903052517335393

加圧溶解水素ラジカル還元水の生産方法並びに生産システム

発明者： 上村 親士
出願人/特許権者： 有限会社情報科学研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-196732
公開番号（公開出願番号）：特開2009-011999
出願日： 2007年06月29日
公開日（公表日）： 2009年01月22日
要約：

【目的】 加圧水素溶解還元磁化処理装置による水素ラジカルコロイドの生産技術を提供する。 本技術は加圧水素溶解方式により、水素を溶解した高濃度水素溶液をさらに還元磁化処理し、化学的に抗酸化機能が測定できる水素ラジカルコロイドの生産を可能とした。 また、溶液を脱気し、加圧水素溶解方式により、水素を溶解した高濃度水素溶液を、さらに還元磁化処理し、化学的に抗酸化機能が測定できる水素ラジカルコロイドの生産を可能とした。【構成】1 脱気装置2 圧力タンク装置(高圧水素溶解装置)3 還元磁化装置4 水素ラジカルコロイド充填装置5 アルミ層を有する充填容器【選択図】図1

請求項（抜粋）：

水素ガスを満たした圧力タンク内で送水ポンプから送られる水を圧力タンク内で、シャワー状に散布し、下方から水素ガスを加えてバブリングし、タンク内を加圧し、0.3〜100kg/cm2の圧力で溶液へ水素ガスを溶解し、生産される還元水を圧力タンク内に設けた0.01〜10テスラの磁石又は電磁石を装備した還元磁化装置内で攪拌子で攪拌して磁化し、DPPH法等化学分析でフリーラジカル消去能を確認することができる、機能性の磁化還元水を生産することを特徴とする加圧溶解水素ラジカル還元溶液の生産方法。

IPC (6件)：

C02F 1/48 ,  B01F 1/00 ,  B01D 61/00 ,  C02F 1/20 ,  B01D 19/00 ,  C02F 1/68

FI (11件)：

C02F1/48 A ,  B01F1/00 A ,  B01D61/00 ,  C02F1/20 A ,  B01D19/00 101 ,  B01D19/00 H ,  B01D19/00 D ,  C02F1/68 510A ,  C02F1/68 530A ,  C02F1/68 540F ,  C02F1/68 520B

Fターム (26件)：

4D006GA32 ,  4D006KA72 ,  4D006KB02 ,  4D006PA10 ,  4D006PB02 ,  4D011AA12 ,  4D011AA16 ,  4D011AA17 ,  4D011AD03 ,  4D037AA01 ,  4D037AB18 ,  4D037BA23 ,  4D037BB06 ,  4D037BB07 ,  4D037CA05 ,  4D061DA01 ,  4D061DB06 ,  4D061EA18 ,  4D061EC02 ,  4D061EC05 ,  4D061EC11 ,  4D061EC19 ,  4D061ED20 ,  4D061FA03 ,  4D061FA20 ,  4G035AA01