特許

J-GLOBAL ID：200903052530093919

露光装置およびデバイス製造方法

発明者： 宮島 義一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-115432
公開番号（公開出願番号）：特開2000-306817
出願日： 1999年04月22日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：

【要約】【課題】 二重露光における原版の交換に要する時間によるスループットの低下を防止する。【解決手段】 原版を保持する原版ステージ2と、基板を保持する基板ステージ4と、原版ステージに保持された原版のパターンを基板ステージ上に保持された基板上に露光する露光手段5とを備え、異なるパターンが形成された複数枚の原版1a、1bを用いて二重露光または多重露光を行う露光装置において、原版ステージは複数枚の原版を同時に保持するものとする。さらに、原版ステージと基板ステージとの同期したスキャン移動を行いながら露光を行う際に、スキャン移動を往復で行いながら、原版ステージ上の複数枚の原版のうちから各往路および復路で異なるものを選択して用いてスキャン露光を行う。

請求項（抜粋）：

原版を保持する原版ステージと、基板を保持する基板ステージと、前記原版ステージに保持された原版のパターンを前記基板ステージ上に保持された基板上に露光する露光手段とを備え、異なるパターンが形成された複数枚の原版を用いて二重露光または多重露光を行う露光装置において、前記原版ステージは前記複数枚の原版を同時に保持するものであることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 514 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 F ,  H01L 21/30 518

Fターム (7件)：

5F046AA13 ,  5F046BA05 ,  5F046CC02 ,  5F046CC09 ,  5F046CD02 ,  5F046CD04 ,  5F046DA06