特許
J-GLOBAL ID：200903052530551143
光干渉フィルターの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-345038
公開番号（公開出願番号）：特開平10-186130
出願日： 1996年12月25日
公開日（公表日）： 1998年07月14日
要約：
【要約】【課題】耐熱性の低い透明基板を用い、イオンアシスト蒸着法により光干渉フィルターを製造しても、光学特性、密着性に優れ、かつ、経時変化の小さい耐久性に優れた光干渉フィルターを得ることのできる光干渉フィルターの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】TiO2 およびSiO2 を蒸着材料とし、イオンアシスト蒸着法を用い光干渉フィルターを製造する方法において、TiO2 の蒸着成膜の際、基板に蒸着するTiO2 粒子数に対する、イオンアシストガス中のイオン数の割合を6〜8%とすることで、基板の温度を 130°C以下としたことを特徴とする光干渉フィルターの製造方法。
請求項（抜粋）：
電子ビーム加熱方式により加熱蒸気化したTiO2 およびSiO2 を透明基板上に交互に所定の回数、蒸着成膜し、少なくともTiO2 の蒸着成膜は、酸素とアルゴンよりなるイオン化ガスと、前記イオン化ガスとは別途供給される酸素ガスとの雰囲気下にて、加熱した透明基板に行う、イオンアシスト蒸着法を用いた光干渉フィルターの製造方法において、TiO2 の蒸着成膜の際、透明基板に蒸着するTiO2 粒子数に対する、イオン化ガス中のイオン数の割合を6〜8%とすることで、透明基板の温度を 130°C以下としたことを特徴とする光干渉フィルターの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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