特許
J-GLOBAL ID：200903052533346320
パターン欠陥検出方法及びパターン欠陥検出装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-324878
公開番号（公開出願番号）：特開平7-098281
出願日： 1993年12月22日
公開日（公表日）： 1995年04月11日
要約：
【要約】【目的】本発明のパターン欠陥検出方法及び装置は、被検査物上のパターンの高さにばらつきがあり、パターンエッジにノイズ的な凹凸があっても、多大な悪影響を及ぼすパターンの欠陥を信頼性が高く高速に検出することを目的とする。【構成】空間フィルタ12a・12bにより設計通りに正確に形成されたパターンからの全ての光については空間フィルタ12a・12bを透過できなくする。しかし、異常を生じているパターンからの光については空間フィルタ12a・12bを透過して画像センサ3a・3bに結像されるが、パターンエッジにはノイズ的な凹凸を生じていたり、パターンの高さにもばらつきがあるために画像センサ3a・3b上にはノイズに近い不規則な像が現れている。そこで画像センサ3a・3bの双方の画像を画像処理装置14において比較して不良部分を抽出する。
請求項（抜粋）：
板状物体に形成されている規則的パターンの欠陥を検出するパターン欠陥検出方法において、前記規則的パターンのフーリエ変換像に空間フィルタをかけた結果と、前記規則的パターン上の複数箇所での同一パターンの光学画像を比較した結果とを用いることを特徴としたパターン欠陥検出方法。
IPC (4件)：
G01N 21/88
, G02B 21/00
, G06T 7/00
, H01L 21/66
