ダイヤモンド合成方法及びその装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡辺三彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-041165
公開番号（公開出願番号）：特開平10-236898
出願日： 1997年02月25日
公開日（公表日）： 1998年09月08日
要約：

【要約】【目的】再現性がよく、基板温度を高温に保持する必要がなく、ダイヤモンドの核発生の密度が高く、厚膜が形成され、良質のダイヤモンドを得ることができるダイヤモンドの合成方法を得ること。【構成】少なくとも炭素と水素の原子を含む気体状あるいは液体状の流体物質を凝固させてなる凝固ターゲット物質に、シンクロトロン放射光を照射してアブレーションを発生させて、基板上にダイヤモンドを生成させることを特徴とするダイヤモンド合成方法とこれを具現化した装置。

請求項（抜粋）：

少なくとも炭素と水素の原子を含む気体状あるいは液体状の流体物質を凝固させてなる凝固ターゲット物質に、シンクロトロン放射光を照射してアブレーションを発生させて、基板上にダイヤモンドを生成させることを特徴とするダイヤモンド合成方法。

IPC (4件)：

C30B 29/04 , C23C 14/28 , C30B 25/06 , H01L 21/205

FI (4件)：

C30B 29/04 K , C23C 14/28 , C30B 25/06 , H01L 21/205

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開昭59-137396
ダイヤモンド薄膜の形成方法および形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-021128 出願人：住友電気工業株式会社
ダイヤモンド状炭素薄膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-084472 出願人：トヨタ自動車株式会社, 英貢

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