特許
J-GLOBAL ID：200903052545535470

情報処理装置、デバイス製造処理システム、デバイス製造処理方法、プログラム、露光方法、露光装置、測定又は検査方法及び測定検査器

発明者：
沖田 晋一

沖田 晋一 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-351457
公開番号（公開出願番号）：特開2007-158034
出願日： 2005年12月06日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：
【課題】複数種類のデバイス製造処理装置を連携動作させる。【解決手段】この連携レシピファイルには、露光装置から測定器へのアライメント関連のデータの送信(2行目)、測定器におけるEGA計測(3行目)、計測結果の露光装置へのフィードバック(4行目)、エラー数チェック(5行目)、エラー数が許容値を上回った場合の処理(6行目〜12行目)、などがその処理順に記述されており、露光工程管理コントローラは、この連携レシピファイルにしたがって、露光装置と測定器とを連携動作させる。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
デバイスの製造処理に供される情報処理装置において、 複数種類のデバイス製造処理装置に跨る連携デバイス製造処理を制御するための情報が記述された連携レシピファイルに基づいて、複数種類のデバイス製造処理装置を連携動作させることを特徴とする情報処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/66 ,  G05B 19/418
FI (5件)：
H01L21/30 502G ,  G03F7/20 501 ,  H01L21/02 Z ,  H01L21/66 Z ,  G05B19/418 Z
Fターム (16件)：
2H097BA10 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  3C100AA22 ,  3C100BB01 ,  3C100BB11 ,  3C100CC02 ,  3C100EE06 ,  4M106AA01 ,  4M106CA38 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ38 ,  5F046AA17 ,  5F046AA28 ,  5F046DA02 ,  5F046DA30
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (7件)
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