特許

J-GLOBAL ID：200903052562273617

工業用防腐剤

発明者： 真鍋 一秀
出願人/特許権者： 三愛石油株式会社
代理人 (1件)： 佐田 守雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-231902
公開番号（公開出願番号）：特開平11-071210
出願日： 1997年08月28日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 長期間にわたり細菌と糸状菌の防除効果があり、継続的に微生物が混入する場合にも持続して微生物を防除する工業用防腐剤を提供する。【解決手段】 (A)一般式Iのイソチアゾリンの1種以上を含む製剤、(B)ポリヘキサメチレンビグアナイドの塩酸塩、(C)ジメチロールジメチルヒダントイン及び(D)N-ビス(3-アミノプロピル)ドデシルアミンから選ばれた化合物を含み、下記の組合せよりなる組成物である工業用防腐剤。(i)(A),(B)及び(C)を含む防腐剤組成物(ii)(A)及び(D)を含む防腐剤組成物(Xは水素又はハロゲン、Yは水素を表すか、あるいはXとYが一緒にベンゼン環を形成し、RはC1〜5のアルキル基を表す)

請求項（抜粋）：

(A)下記の一般式(I)で示されるイソチアゾリンの1種以上を含む製剤、【化1】(式中、Xは水素原子又はハロゲン原子を表すか、あるいはYと一緒になってベンゼン環を形成し、Yは水素原子を表すか又はXと一緒になってベンゼン環を形成する。また、Rは炭素数1〜5のアルキル基を表す)(B)下記の一般式(II)で示されるポリヘキサメチレンビグアナイドの塩酸塩【化2】(C)下記の一般式(III)で示されるジメチロールジメチルヒダントイン、及び【化3】(D)下記の一般式(IV)で示されるN-ビス(3-アミノプロピル)ドデシルアミン【化4】から選ばれた化合物1種以上よりなり、下記の組合せの防腐剤組成物であることを特徴とする工業用防腐剤。(i)(A),(B)及び(C)を含む防腐剤組成物(ii)(A)及び(D)を含む防腐剤組成物

IPC (5件)：

A01N 43/80 102 ,  A01N 43/80 ,  A01N 47:44 ,  A01N 43:82 ,  A01N 33:04