特許

J-GLOBAL ID：200903052567158875

基板処理装置および基板処理方法

発明者： 濱田 哲也
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-026060
公開番号（公開出願番号）：特開2007-208064
出願日： 2006年02月02日
公開日（公表日）： 2007年08月16日
要約：

【課題】一連の処理プロセスにおける異常の発生を即時に検知できる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板に対して一連の処理プロセスを行う基板処理装置において、各処理プロセスを行う処理部に対して基板の受け渡しを行う主搬送機構10A,10B,10C,10D,10Eの保持アーム100a(100b)に質量測定手段として光学式センサーを取り付ける。光学式センサーが測定した保持アーム100a,100bのたわみ量から、各処理部から取り出される基板Wの質量を算出して、各種の処理プロセスが行われる前後の基板の質量データを得る。この質量データから、各処理プロセスについて処理プロセス前後の質量変化量を算出し、質量変化量が所定の数値領域にない場合、当該プロセスを行った処理部において異常が発生していると判断する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板に対して一連の処理プロセスを行う基板処理装置において、 基板に各種の処理プロセスを行うための複数の処理部と、 前記複数の処理部に対して所定の順序で基板の受け渡しを行う搬送機構と、 前記各種の処理プロセスうちの少なくともひとつの処理プロセスが行われる前後の基板の質量を測定する質量測定手段と、 前記質量測定手段による基板の質量測定値に基づいて、前記複数の処理部のうち前記測定の結果に影響を及ぼす部分における異常の発生を検知する異常検知手段と、 を備え、 前記質量測定手段が、前記搬送機構に搭載されていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G01G 3/12 ,  H01L 21/677 ,  B65G 49/07

FI (5件)：

H01L21/30 502G ,  H01L21/30 562 ,  G01G3/12 ,  H01L21/68 A ,  B65G49/07 C

Fターム (45件)：

5F031CA02 ,  5F031DA01 ,  5F031DA17 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA04 ,  5F031GA06 ,  5F031GA36 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031HA13 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031HA48 ,  5F031HA59 ,  5F031JA01 ,  5F031JA02 ,  5F031JA22 ,  5F031JA32 ,  5F031JA45 ,  5F031JA51 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA04 ,  5F031MA07 ,  5F031MA13 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031NA02 ,  5F031NA16 ,  5F031NA17 ,  5F031NA18 ,  5F031PA02 ,  5F031PA04 ,  5F031PA30 ,  5F046AA17 ,  5F046DA29 ,  5F046DB14 ,  5F046DC10

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-174341   出願人：大日本スクリーン製造株式会社