縮小投影露光方法およびその装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-074845
公開番号（公開出願番号）：特開平9-266157
出願日： 1996年03月28日
公開日（公表日）： 1997年10月07日
要約：

【要約】【課題】縮小投影露光方法およびその装置において、定期的にゴミ10の付着の有無の検査を行なうこと無くステージ4とウェハ9との間に介在するゴミ10によって生ずるパターン転写不良を無くす。【解決手段】一照射領域12毎にレーザ光を照射するレーザ発振器5と、反射するレーザ光量を測定するセンサ6とを設け、投影レンズの焦点深度を超える膨らみ11による異常な高さ変化量をセンサ6で検知し、アラームを発生するとともに装置を停止させかつ膨らみ11のある照射領域12の位置を位置表示部1aに表示する。

請求項（抜粋）：

一露光光の照射領域毎に露光光を繰返して照射し半導体基板にレチクルパターンを転写する縮小投影露光方法において、前記照射領域毎にレーザ光を照射しその反射光量を測定し該光量により該照射領域上に膨らみの有無を調べ該膨らみが規定の膨らみより大きいか否かを判定し、もし該膨らみが大きければ警報を発するとともに露光動作を停止しかつ該膨らみのある該照射領域の位置を表示することを特徴とする縮小投影露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , H01L 21/66

FI (4件)：

H01L 21/30 503 G , G03F 7/20 521 , H01L 21/66 J , H01L 21/30 516 Z

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭61-048923
特開平1-264220
特開平2-122613

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