特許
J-GLOBAL ID：200903052583785499
ペロブスカイト型酸化物薄膜及びペロブスカイト類似型酸化物薄膜並びにそれらの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
穂高 哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-020775
公開番号（公開出願番号）：特開平5-286702
出願日： 1993年01月14日
公開日（公表日）： 1993年11月02日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 膜組織の均質性、基板(基材)と接触信頼性等にも優れ、膜の緻密性や細孔径、気孔率、膜厚等を制御・選定でき、気相及び/又は液相との接触効率を改善できる高性能のペロブスカイト型酸化物薄膜又はペロブスカイト類似型酸化物薄膜を提供する。【構成】 ペロブスカイト型酸化物又はペロブスカイト類似型酸化物からなる平均粒子径1.0nm以上1μm以下の酸化物粒子が連続的に結合して構成され、かつ、その膜厚が5nm以上10μm以下であるペロブスカイト型酸化物薄膜又はペロブスカイト類似型酸化物薄膜の製造方法であって、エーテル結合を持つアルコール及び/又は窒素含有アルコールからなる溶媒に少なくともペロブスカイト型酸化物又はペロブスカイト類似型酸化物の形成原料である金属塩及び/又は金属錯体を溶解してなる溶液を基板上に塗布し、熱分解するペロブスカイト型酸化物薄膜又はペロブスカイト類似型酸化物薄膜の製造方法より成る。
請求項（抜粋）：
ペロブスカイト型酸化物からなる平均粒子径1.0nm以上1μm以下の酸化物粒子が連続的に結合して構成され、かつ、その膜厚が5nm以上10μm以下であることを特徴とするペロブスカイト型酸化物薄膜。
IPC (4件)：
C01B 13/18
, C01G 3/00
, C01G 45/00
, C01G 51/00
