特許

J-GLOBAL ID：200903052588718293

マスクのパターンデータ作成方法

発明者： 森田 正行 ,  森内 昇 ,  白井 精一郎
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立超エル・エス・アイ・エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-179185
公開番号（公開出願番号）：特開平5-027409
出願日： 1991年07月19日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：

【要約】【目的】 位相シフトマスクのパターンデータの作成を容易にする。【構成】 位相シフトマスクパターンデータを実パターンデータ層、補助パターンデータ層およびシフタパターンデータ層に分離する(101)。続いて、前工程で分離された実パターンデータ、補助パターンデータおよびシフタパターンデータをそれぞれ別々に検図、修正し、この段階における正しい実パターンデータ、補助パターンデータおよびシフタパターンデータを作成する(102)。その後、前工程で得られた正しい実パターンデータ、補助パターンデータおよびシフタパターンデータを2つずつ組合せを変えて合成して、3つの二層合成パターンデータを作成し、そのそれぞれを検図、修正してこの段階における正しい二層合成パターンデータを複数作成する(103)。最後に、前工程で得られた正しい二層合成パターンデータを全て合成して三層合成パターンデータを作成し、それを検図、修正する(104)。

請求項（抜粋）：

マスク基板上にマスクパターンおよび位相シフトパターンを有するマスクのパターンデータ作成方法であって、前記パターンデータを実パターンデータを有する実パターンデータ層、補助パターンデータを有する補助パターンデータ層および位相シフトパターンデータを有する位相シフトパターンデータ層に分けてレイアウトするデータ分離工程と、前記実パターンデータ、補助パターンデータおよび位相シフトパターンデータを別々に検図し、修正する第一検図修正工程と、前記第一検図修正工程によって得られたその段階の正しい実パターンデータ、補助パターンデータおよび位相シフトパターンデータを合成して得られる三層合成パターンデータを検図し、修正する第二検図修正工程とを有することを特徴とするマスクのパターンデータ作成方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G06F 15/60 370 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 W