特許

J-GLOBAL ID：200903052594191868

光磁気ディスク媒体用基板の製造方法

発明者： 野沢 保明 ,  阿部 徳治
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-166482
公開番号（公開出願番号）：特開平8-025502
出願日： 1994年07月19日
公開日（公表日）： 1996年01月30日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】基板に保護膜や磁性材料を蒸着積層して作製した光磁気ディスクの複屈折が低いもの、即ち好ましくはHe-Ne レーザーの平行光(波長633nm )を用いて直入射で測定した時、ダブルパスで0±20nmの範囲に入るような光磁気ディスク用基板の製造方法を提供する。【構成】直径が90mm以下でポリカーボネート製の光磁気ディスク用基板を射出成形するに当たり、金型温度を 110〜 125°Cとし、金型キャピティ容積の50%までを60〜120ml/sec 、その後50%から90%までを70〜110ml/sec の速度で充填し、最後の引け分(冷却の進行に伴う体積収縮分)を保圧(200 〜500kg/cm2 、0.2〜0.7sec)で行ない、ゲート部を機械的に遮断し、基板に対して 550〜750kg/cm2 の面圧で圧縮しかつ冷却の時間(t(秒))が式0.13Tm -9≦t≦0.13Tm-5(Tm :金型温度(°C))を満足するものである光磁気ディスク用基板の製造方法。

請求項（抜粋）：

固定側金型と移動側金型およびこれらの間に設けられたスタンパから成る成形金型のキャビティに溶融した合成樹脂を射出し、圧縮かつ冷却して樹脂基板を成形する工程において、射出後ゲート部を機械的に遮断し、基板に対して550 〜750kg/cm2 の面圧で圧縮かつ冷却することを特徴とする光磁気ディスク用基板の製造方法。

IPC (6件)：

B29D 17/00 ,  B29C 45/57 ,  B29C 45/77 ,  B29C 45/73 ,  B29K 69:00 ,  B29L 17:00