特許
J-GLOBAL ID：200903052606214869
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
西川 惠清
, 森 厚夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-121693
公開番号（公開出願番号）：特開2006-302625
出願日： 2005年04月19日
公開日（公表日）： 2006年11月02日
要約：
【課題】 被処理物に静電気が帯電するのを低減することができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 大気圧近傍の圧力下でプラズマ生成用ガスGを放電により活性化させてプラズマPを生成する。このプラズマPを被処理物Sに吹き付けるプラズマ処理装置に関する。複数の貫通孔2を設けた絶縁基材1と、貫通孔2内に放電を発生させる放電電極3、4とを備える。貫通孔2の一端側開口をプラズマ生成用ガスGが流入する流入口2aとして形成すると共に貫通孔2の他端側開口をプラズマPが流出する流出口2bとして形成する。誘電体で被覆された帯電防止電極5を流出口2bの周辺に設けると共に帯電防止電極5に電圧を印加する。プラズマP中の荷電粒子が、帯電防止電極5に印加する電圧により生じる電界の影響を受けて、帯電防止電極5を被覆している誘電体表面に移動し、誘電体表面が帯電することによって、プラズマP中の荷電粒子密度が大幅に減少する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
大気圧近傍の圧力下でプラズマ生成用ガスを放電により活性化させてプラズマを生成し、このプラズマを被処理物に吹き付けるプラズマ処理装置において、複数の貫通孔を設けた絶縁基材と、貫通孔内に放電を発生させる放電電極とを備え、貫通孔の一端側開口をプラズマ生成用ガスが流入する流入口として形成すると共に貫通孔の他端側開口をプラズマが流出する流出口として形成し、誘電体で被覆された帯電防止電極を流出口の周辺に設けると共に帯電防止電極に電圧を印加して成ることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05H1/24
, H01L21/304 645C
出願人引用 (1件)
審査官引用 (12件)
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