特許
J-GLOBAL ID：200903052611876977
基板熱処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-042235
公開番号（公開出願番号）：特開平5-218007
出願日： 1992年01月30日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：
【要約】【目的】 熱処理後において、炉芯管を加熱手段に対して変位させること無く、所定温度まで早期に下降できるようにして、安全かつ良好に単位時間当りの処理能力を向上する。【構成】 内部にガスを導入するようにした炉芯管1の周囲にヒーターユニット6を設け、炉芯管1とヒーターユニット6との間に位置してヒーターユニット6からの熱を遮断する遮断筒13を、熱遮断位置と、そこから外れた非熱遮断位置とに変位可能に設け、遮断筒13が熱遮断位置にある状態で炉芯管1とヒーターユニット6との間に冷却用ガスを流して炉芯管1および内部の基板W...を冷却する。
請求項（抜粋）：
内部にガスを導入するようにした炉芯管の周囲に加熱手段を設けて基板を加熱するようにした基板熱処理装置において、前記炉芯管と前記加熱手段との間に位置して前記加熱手段からの熱を遮断する遮断筒を、熱遮断位置と、そこから外れた非熱遮断位置とに変位可能に設け、前記遮断筒が熱遮断位置にある状態で前記炉芯管と前記加熱手段との間に冷却用ガスを流す冷却ガス供給手段を付設したことを特徴とする基板熱処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/31
, F27B 5/06
, F27B 17/00
, F27D 9/00
, H01L 21/22
