特許

J-GLOBAL ID：200903052624774812

表面分析装置

発明者： 高橋 護 ,  吉木 昌彦 ,  高桑 智恵 ,  鈴木 健 ,  富田 充裕 ,  山口 博
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 三好 秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-053128
公開番号（公開出願番号）：特開平9-243579
出願日： 1996年03月11日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】 絶縁物等の試料に対しても、表面帯電の影響を抑制して測定が行なえる表面分析装置を提供する。【解決手段】 電離放射線源1と、この電離放射線源1からの電離放射線の照射により試料から放出される荷電粒子を測定する測定手段4と、試料表面の帯電を中和するための帯電中和手段7とを少なくとも具備する表面分析装置である。帯電中和手段は、試料表面上又は表面内部に埋め込まれた基準元素からの放出電子ピークを測定し、この信号情報を帰還することにより、照射する電子量や電子の運動エネルギー等を自動的に調整する。このため帯電状態の変動や分布に対応して迅速に中和条件を設定し、短時間で正確な表面分析が可能となる。

請求項（抜粋）：

電離放射線源と、この電離放射線源からの電離放射線の照射により試料から放出される荷電粒子を測定する荷電粒子測定手段と、試料の帯電を中和するための帯電中和手段と、前記試料の表面または内部に非帯電時のピーク位置が既知である基準元素を配置し、この基準元素に前記電離放射線を照射した際に、前記基準元素の放出荷電粒子ピークを既知のピーク位置と一致させ、一致したピーク位置の強度が最大、かつ一致したピークの幅が最小となるように、照射する電子量、照射する電子の運動エネルギー及び電子を照射する位置のうち少なくとも1つを調整する調整手段を有することを特徴とする表面分析装置。

IPC (3件)：

G01N 23/22 ,  G01N 23/227 ,  H01L 21/66

FI (3件)：

G01N 23/22 ,  G01N 23/227 ,  H01L 21/66 L