特許

J-GLOBAL ID：200903052631271028

ドライ現像用ポジ型レジスト組成物

発明者： 高橋 純一 ,  日馬 征智 ,  中村 俊夫 ,  勇元 喜次
出願人/特許権者： 日本合成ゴム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-348478
公開番号（公開出願番号）：特開平7-191465
出願日： 1993年12月27日
公開日（公表日）： 1995年07月28日
要約：

【要約】【構成】 アジド化合物(イ)と水酸基含有樹脂(ロ)とを、および/またはアジド基と水酸基を含有する樹脂(ハ)を含有することを特徴とするドライ現像用ポジ型レジスト組成物。【効果】 ドライ現像時にレジストパターンの未露光部の膜減りがなく、現像性、パターン形状、解像度等に優れる。

請求項（抜粋）：

アジド化合物(イ)と水酸基含有樹脂(ロ)とを、および/またはアジド基と水酸基を含有する樹脂(ハ)を含有することを特徴とするドライ現像用ポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/012 501 ,  G03F 7/36 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 569 H