特許
J-GLOBAL ID：200903052632513734
フオトマスクの洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-296004
公開番号（公開出願番号）：特開平5-134396
出願日： 1991年11月12日
公開日（公表日）： 1993年05月28日
要約：
【要約】【目的】半導体装置の製造等に用いられているフォトマスクの洗浄でフォトマスクの保持具に隠れた部分を洗浄することことができるフォトマスクの洗浄装置を提供する。【構成】1のフォトマスクを、2の保持具と3及び4の保持具の4つの保持具でで持ち換えることによって、スポンジブラシ5でフォトマスク全体をむらなくスクラブ洗浄する。【効果】スポンジブラシによってフォトマスク全体をむらなくスクラブすることが可能になり、フォトマスクの汚染が極めて少なくなる。また、保持部とスポンジブラシが接触することが全くないため、スポンジブラシが摩耗せず、スポンジブラシによる発塵がなくなるばかりでなく、スポンジブラシの寿命が著しく長くなる。
請求項（抜粋）：
半導体等の製造に利用されるフォトマスクの洗浄装置に於てフォトマスクの保持方法を4カ所中2カ所を選択する2カ所選択型にし洗浄を行なうことを特徴とするフォトマスクの洗浄装置。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, B08B 3/04
, H01L 21/304 341
