特許
J-GLOBAL ID：200903052632660184
ガス処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
梶原 辰也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-352054
公開番号（公開出願番号）：特開平6-177116
出願日： 1992年12月09日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：
【要約】【目的】 ウエハ自体の温度を制御し、かつ、サセプタの状態を監視する。【構成】 処理室2と、ガス供給路14と、ウエハ1を保持するサセプタ7と、サセプタを介してウエハを加熱するヒータ22とを備えたプラズマCVD装置において、サセプタ7の温度を測定する熱電対24と、サセプタに保持されたウエハ1の温度を測定する放射温度計26とを設備し、熱電対24および放射温度計26をヒータ22を制御するコントローラ23に接続する。コントローラ23はウエハ1がサセプタ7に不在の際には熱電対23の測定データによってヒータ22を制御し、ウエハ1がサセプタ7に存在する際には放射温度計26の測定データによってヒータ22を制御するように、かつ、熱電対24の測定データと放射温度計26の測定データとを比較してサセプタ7の表面状態を監視するように構成されている。
請求項（抜粋）：
被処理物が出し入れされる出し入れ口を有する処理室と、処理室に接続されて処理ガスが供給されるガス供給路と、処理室内に設備されて被処理物を保持するサセプタと、サセプタの被処理物と反対側に設備されて被処理物を加熱するヒータとを備えているガス処理装置において、前記サセプタに接触されてその温度を測定する接触式温度計が前記サセプタに設備されており、また、前記サセプタに保持された被処理物に非接触にてその被処理物の温度を測定する非接触式温度計が前記処理室に設備されており、この接触式温度計および非接触式温度計が前記ヒータを制御するコントローラに接続され、このコントローラは、前記被処理物がサセプタに不在の際には前記接触式温度計の測定データによって前記ヒータを制御するとともに、前記被処理物がサセプタに存在する際には前記非接触式温度計の測定データによって前記ヒータを制御するように構成されており、また、前記接触式温度計の測定データと非接触式温度計の測定データとを比較することにより、前記サセプタの表面状態を監視するように構成されていることを特徴とするガス処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/31
, C30B 25/10
, C30B 25/12
, C30B 25/16
, H01L 21/205
