特許
J-GLOBAL ID：200903052635231845
平面研磨装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-035794
公開番号（公開出願番号）：特開平8-229785
出願日： 1995年02月24日
公開日（公表日）： 1996年09月10日
要約：
【要約】【目的】 ワーク加工中に絶えず砥石の目詰り防止を計り、ドレッシングを特別にする必要が無いようにした平面研磨装置を提供する。【構成】 ワーク保持用キャリアを自転させた状態で、強制回転される一対の砥石10,30でワークを挟むことにより、両砥石10,30によって研磨加工を行える。両砥石10,30の裏面10b,30b側に高圧の研磨液Aを供給することで、研磨液Aは、ポーラスな状態の両砥石10,30の裏面10b,30bから加工面10a,30aへと流れて、加工面10a,30aの全面から吐出されることになり、両砥石10,30の目詰りを防止し、ノンドレッシングで研磨加工できる。
請求項（抜粋）：
相対的に接近離間自在でかつ回転自在な一対の砥石を、研磨液が通るポーラスな状態で形成し、これら砥石の加工面とは反対側の裏面に高圧の研磨液を供給する研磨液供給装置を設けたことを特徴とする平面研磨装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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