特許
J-GLOBAL ID：200903052637391777
洗浄方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
菊池 弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-244285
公開番号（公開出願番号）：特開平5-013393
出願日： 1991年08月30日
公開日（公表日）： 1993年01月22日
要約：
【要約】【目的】 半導体基板上の汚染物を良好に除去する。【構成】 液化ガスを洗浄液として洗浄を行う。この時同時に超音波を照射すれば、より良好に汚染物を除去できる。また、液化ガス中によれば超音波照射による半導体基板のダメージを軽減できる。また、純水洗浄後に液化ガスによる洗浄を行えば、汚染物とともに純水洗浄後の残存水分を除去して、清浄な乾燥表面が得られる。
請求項（抜粋）：
液化ガスを洗浄液として被洗浄物の洗浄を行うようにした洗浄方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304 351
