特許

J-GLOBAL ID：200903052639442301

セルロースアセテートフイルムの製造方法およびセルロースアセテートフイルム

発明者： 椋木 康雄
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 柳川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-214448
公開番号（公開出願番号）：特開2002-030157
出願日： 2000年07月14日
公開日（公表日）： 2002年01月31日
要約：

【要約】【課題】 セルローストリアセテートが塩素系炭化水素以外である酢酸メチルの有機溶媒に安定な状態で溶解している溶液を得て、それによって優れたセルローストリアセテートフィルムを製造する。【解決手段】 平均酢化度が58.0〜62.5%のセルローストリアセテート及び、実質的に含塩素炭化水素を含まず、酢酸メチルを含む有機溶媒の混合物を-100〜-10°Cに冷却する工程、冷却された混合物を0〜55°Cに加温してセルローストリアセテートを溶解する工程、及び必要に応じて該溶液に添加物を添加して混合する工程を通して調製されたセルローストリアセテート溶液を支持体上に流延する工程及び溶媒を蒸発させてフィルムを乾燥する工程を通してセルローストリアセテートフイルムを形成するにあたり、該セルローストリアセテート溶液を調製する過程のいずれかでアセト酢酸メチルまたはアセト酢酸エチルを溶液に対して3〜30重量%含有する。

請求項（抜粋）：

平均酢化度が58.0〜62.5%のセルローストリアセテート及び、実質的に含塩素炭化水素を含まず、酢酸メチルを含む有機溶媒の混合物を-100〜-10°Cに冷却する工程、冷却された混合物を0〜55°Cに加温してセルローストリアセテートを溶解する工程、及び必要に応じて該溶液に添加物を添加して混合する工程を通して調製されたセルローストリアセテート溶液を支持体上に流延する工程及び溶媒を蒸発させてフイルムを乾燥する工程を通してセルローストリアセテートフイルムを形成するにあたり、該セルローストリアセテート溶液を調製する過程のいずれかで、アセト酢酸メチルまたはアセト酢酸エチルを溶液に対して3〜30重量%含有することを特徴とするセルローストリアセテートフイルムの製造方法およびそのフイルム。

IPC (6件)：

C08J 5/18 CEP ,  B29C 41/26 ,  B29C 41/28 ,  B29K 1:00 ,  B29L 7:00 ,  C08L 1:12

FI (6件)：

C08J 5/18 CEP ,  B29C 41/26 ,  B29C 41/28 ,  B29K 1:00 ,  B29L 7:00 ,  C08L 1:12

Fターム (23件)：

4F071AA09 ,  4F071AA81 ,  4F071AC10 ,  4F071AC15 ,  4F071AE04 ,  4F071AE19 ,  4F071AH19 ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4F205AA01 ,  4F205AB07 ,  4F205AC05 ,  4F205AG01 ,  4F205GA07 ,  4F205GB02 ,  4F205GC02 ,  4F205GC07 ,  4F205GE09 ,  4F205GE10 ,  4F205GE22 ,  4F205GF02 ,  4F205GF24