特許
J-GLOBAL ID：200903052660892570
パターン欠陥検査方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-209453
公開番号（公開出願番号）：特開平7-063691
出願日： 1993年08月24日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：
【要約】【目的】 検査パターンの検査画像データの座標と参照パターンの参照画像データの座標との間に、たとえ多少の座標ずれが存在したとしても、パターン欠陥のみを確実に検出する。【構成】 被検査体のパターン欠陥検出のための参照画像データにおけるエッジ方向を検出し、このエッジ方向に従って参照画像データと被検査体を撮像して得られる検査画像データとに対してそれぞれ微分処理を行い、これら微分処理された参照画像データと検査画像データとを比較し、これら画像データ間の差異からパターン欠陥を検出する。
請求項（抜粋）：
被検査体のパターン欠陥検出のための参照画像データにおけるエッジ方向を検出し、このエッジ方向に従って前記参照画像データと前記被検査体を撮像して得られる検査画像データとに対してそれぞれ微分処理を行い、これら微分処理された前記参照画像データと前記検査画像データとを比較し、これら画像データ間の差異から前記パターン欠陥を検出することを特徴とするパターン欠陥検査方法。
IPC (2件)：
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