特許
J-GLOBAL ID：200903052665106204
パターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-182687
公開番号（公開出願番号）：特開平7-036196
出願日： 1993年07月23日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【目的】 樹脂の活性ビーム露光による反応を、忠実に形成パターンに反映させることができ、しかも工程が複雑にならず、工程管理が容易であるパターン形成方法を実現することを目的としている。【構成】 基板に活性ビーム感応性樹脂を成膜する工程、活性ビームにより露光を行う工程、および現像液により現像を行う工程を施すパターン形成方法において、上記現像液として、所望時間内に現像終了できる濃度の塩基性の水溶液に弱塩基性の塩を溶解させることによりイオン強度を1.5倍以上に増大させた液を用いる。
請求項（抜粋）：
基板に活性ビーム感応性樹脂を成膜する工程、活性ビームにより露光を行う工程、および現像液により現像を行う工程を施すパターン形成方法において、上記現像液として、所望時間内に現像終了できる濃度の塩基性の水溶液に弱塩基性の塩を溶解させることによりイオン強度を1.5倍以上に増大させた液を用いることを特徴とするパターン形成方法。
IPC (2件)：
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