特許

J-GLOBAL ID：200903052666840939

SOR露光システム

発明者： 森 真起子 ,  雨宮 光陽 ,  小澤 邦貴
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-222889
公開番号（公開出願番号）：特開平5-062885
出願日： 1991年09月03日
公開日（公表日）： 1993年03月12日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 X線反射ミラーで反射されたSOR光を用いてマスク上のパターンを半導体ウェハに転写するSOR露光システムにおいて、SORリングへの電子注入時及びSORリング停止時に,SORリングから発生するガンマ線等の放射線から人体を保護すると共に、X線反射ミラーの放射線損傷を低減し、安定した反射率とメンテナンスの容易化を可能にする。【構成】 SORリングと露光装置の間に設けられるビームポート中で、SORリングとX線反射ミラーの間に少なくともガンマ線を遮断する第1シャッタ5とX線を遮断する第2シャッタ8を配置すると共に、該ミラーと露光装置の間にX線の露光量を制御する露光量制御用シャッタ11を配置する。

請求項（抜粋）：

シンクロトロン放射光を発生するSORリングと前記シンクロトロン放射光に露光処理を行なう少なくとも1つの露光装置と、前記SORリングと前記露光装置の各々とを接続し前記シンクロトロン放射光を導くビームポートと、前記ビームポート中に設けられ、前記シンクロトロン放射光を鉛直方向に拡大させるためのX線反射ミラーにより構成されるSOR露光システムにおいて、前記ビームポート中の前記SORリングと前記ミラーとの間に、少なくともガンマ線を遮断する第1遮断手段と、X線を遮断する第2遮断手段を設けると共に、前記ミラーとウェハとの間にマスク上の回路パターンを前記ウェハに転写する際の露光量を制御する露光量調節手段とを設けたことを特徴とするSOR露光システム。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521