特許
J-GLOBAL ID：200903052686281316
イオン注入装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-222347
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064462
出願日： 1996年08月23日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：
【要約】【課題】ビーム遮断板の交換頻度が高く、スループットが低下する。【解決手段】ビーム遮断板3の開閉動作を行う遮断板開閉機構部2に、遮断板走査移動機構部2を設け、イオン注入停止期間中にビーム遮断板3の一定範囲をイオンビーム10が走査するように構成する。
請求項（抜粋）：
イオンソースから発生したイオンビームを分離する質量分析器と、分離されたイオンビームが照射される被注入物を保持する保持体と、前記質量分析器と前記保持体との間に設けられイオン注入停止期間中の前記イオンビームを遮断する為のビーム遮断板とを有するイオン注入装置において、イオン注入停止期間中に前記ビーム遮断板の一定範囲を前記イオンビームが走査するように前記ビーム遮断板を動かす遮断板走査移動機構部を設けたことを特徴とするイオン注入装置。
IPC (4件)：
H01J 37/09
, C23C 14/48
, H01J 37/317
, H01L 21/265
H01J 37/09 Z
, C23C 14/48 Z
, H01J 37/317 C
, H01L 21/265 D
