特許

J-GLOBAL ID：200903052688003615

高純度のブラウンガスを利用した微細気泡含有高濃度酸素水素水製造装置及び製造方法

発明者： キム・チョルオク ,  キム・ホグェン ,  キム・ボムス
出願人/特許権者： 株式会社ユニシア ,  エル-キューブ カンパニー リミテッド.
代理人 (2件)： 青木 博昭 ,  森村 靖男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-199465
公開番号（公開出願番号）：特開2009-248079
出願日： 2008年08月01日
公開日（公表日）： 2009年10月29日
要約：

【課題】良い水の新たな条件に成り得る酸素と水素の両方が豊富な微細気泡を含む高濃度酸素水素水の製造装置及び製造方法を提供すること。【解決手段】給水された水からブラウンガスを生産するブラウンガス生成ユニット(400);生成されたブラウンガスと水を、多孔質物質を通して微細気泡を発生させ混合させる混合部(500);上記の混合部(500)と連結し、ブラウンガスと水の混合流体である微細気泡を加圧しブラウンガスの溶解度を高めるための溶解部(300);及び上記の溶解部(300)と連結された上記の溶解部(300)から排出される酸素水素水を貯蔵させる貯蔵タンク(120)を含む酸素水素水製造装置。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

給水された水からブラウンガスを生成するブラウンガス生成ユニット; 生成されたブラウンガスと水を、多孔質物質を通して微細気泡を発生させ混合させる混合部; 上記の混合部に連結し、ブラウンガスと水の微細気泡を含む混合流体を加圧しブラウンガスの溶解度を高めるための溶解部;及び 上記の溶解部に連結し、上記の溶解部から排出された酸素水素水を貯蔵する貯蔵タンクを含む高純度ブラウンガスを利用した微細気泡含有高濃度酸素水素水の製造装置。

IPC (6件)：

C02F 1/68 ,  B01F 1/00 ,  B01F 5/00 ,  B01F 5/20 ,  B01F 5/06 ,  A01K 63/04

FI (10件)：

C02F1/68 510B ,  C02F1/68 520B ,  C02F1/68 530C ,  C02F1/68 540Z ,  B01F1/00 A ,  B01F5/00 G ,  B01F5/20 ,  B01F5/06 ,  A01K63/04 F ,  A01K63/04 C

Fターム (10件)：

2B104EB20 ,  2B104EF09 ,  4G035AA01 ,  4G035AC12 ,  4G035AC26 ,  4G035AC39 ,  4G035AC44 ,  4G035AE01 ,  4G035AE10 ,  4G035AE15

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 韓国特許第10-0761099号公報
  
• 韓国特許第10-0479644号公報
  
• 韓国特許第10-083832号公報