2ビーム光走査装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-117234
公開番号（公開出願番号）：特開平6-331913
出願日： 1993年05月19日
公開日（公表日）： 1994年12月02日
要約：

【要約】【目的】 2個の半導体レーザを用いて感光体上に2ビーム同時走査を行なう2ビーム光走査装置において、主走査方向ビームと副走査方向ビームとを別々に容易な調整で高精度にビーム位置調整を行なう。【構成】 2組の半導体レーザ1A,1Bとビーム整形用光学系2A,2Bとを有し、ビーム合成プリズム3により前記2つのビームを合成し、偏向器6、結像光学系により感光体10面上に2ラインを同時に走査して書き込みを行なう2ビーム光走査装置において、前記ビーム整形用光学系2A,2Bと、前記ビーム合成プリズム3との間に、書き込み主走査方向および副走査方向の各ビーム位置を調整するプリズム14,15を設けたことを特徴とする2ビーム光走査装置。

請求項（抜粋）：

2組の半導体レーザとビーム整形用光学系を有し、ビーム合成プリズムにより前記2つのビームを合成し、偏向器、結像光学系により感光体面上に2ラインを同時に走査して書き込みを行なう2ビーム光走査装置において、前記ビーム整形用光学系と、前記ビーム合成プリズムとの間に、書き込み主走査方向および副走査方向の各ビーム位置を調整するプリズムを設けたことを特徴とする2ビーム光走査装置。

IPC (2件)：

G02B 26/10 , B41J 2/44

引用特許：

審査官引用 (14件)

特開平1-239520
特開平1-239520
特開平1-239520

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