特許
J-GLOBAL ID：200903052694391503
イオン注入装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-174909
公開番号（公開出願番号）：特開平5-343024
出願日： 1992年06月09日
公開日（公表日）： 1993年12月24日
要約：
【要約】【目的】 イオン注入装置の被処理体保持台の回動軸を、真空室の気密性を低下させることなく真空室内に取り付けると共に、被処理体保持台を傾けるためのチルト軸を回動軸内に設ける構造であっても、被処理体保持台の左右の位置調整ができるようにすること。【構成】 第1の回動軸部31を真空室1の一方の側壁13に軸支部34を介して軸支すると共に、第2の回動軸部31の軸支部7をベローズ体72を介して他方の側壁14に取り付ける。これら回動軸部31、32を互いに摺動自在に、かつ一体に回動するよう構成し、回動軸部31側に位置固定された位置調整用ナット60に回動軸部32を螺合させ、このナット60により回動軸部31、32を相対的に摺動させる。回動軸部31、32内に夫々チルト軸部51、52を軸支し、これらを互いに摺動自在に一体に回動するよう連結し、回動軸32側にウエハを保持するためのプラテン部4を取り付ける。
請求項（抜粋）：
被処理体を載置して保持する被処理体保持台を、真空室内に配置された回動軸により回動させることによって、被処理体の受け渡し時には被処理体の載置面を横倒し姿勢とし、イオン注入時には当該載置面を起立姿勢にするイオン注入装置において、前記回動軸の一端を軸支する軸支部を、当該回動軸の長手方向に伸縮可能なベローズ体を介して真空室の側壁部に取り付けたことを特徴とするイオン注入装置。
IPC (2件)：
H01J 37/317
, H01L 21/265
