特許
J-GLOBAL ID:200903052694602458
中央に配置された内部熱源を有する流動層リアクタ
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山本 秀策
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-573465
公開番号(公開出願番号):特表2003-524136
出願日: 1999年10月01日
公開日(公表日): 2003年08月12日
要約:
【要約】中央に配置された加熱手段を有する流動層リアクタ(および使用のための方法)が提供される。本発明のリアクタ(10)は、操作の間、粒子(16)の流動層において少なくとも部分的に浸漬される中央に配置された加熱手段(例えばサセプタロッド(12))を備える。好ましくは、サセプタロッド(12)は、RF供給源(18)と作動的に関係する外に配置された高周波コイルにより加熱される。本発明のリアクタは、使用の間、温度勾配がリアクタ内で生じるという点によりさらに特徴づけられる。本発明のリアクタは、電子品位のシリコンの生産において、そして、チタニア粒子のシリカコーティングにおいて用途を見出す。
請求項(抜粋):
以下: リアクタ容器;および 該容器の内部、中央に配置された、少なくとも一つの汚染していない加熱手段であって、それにより操作の間、該加熱手段が該容器の流動粒子層に、少なくとも部分的に浸漬される、加熱手段、を備える流動層リアクタ。
IPC (7件):
F27B 15/14
, B01J 8/18
, B01J 19/12
, B22F 1/02
, H05B 6/24
, F27D 11/02
, F27D 11/06
FI (7件):
F27B 15/14
, B01J 8/18
, B01J 19/12 Z
, B22F 1/02 D
, H05B 6/24
, F27D 11/02 A
, F27D 11/06 Z
Fターム (42件):
3K059AB16
, 3K059AB27
, 3K059AB28
, 3K059AB29
, 3K059AD39
, 3K059AD40
, 4G070AA01
, 4G070AB03
, 4G070BA02
, 4G070BB32
, 4G070CA25
, 4G070CB10
, 4G070CC03
, 4G070DA02
, 4G070DA23
, 4G075AA24
, 4G075AA52
, 4G075AA63
, 4G075BC10
, 4G075BD10
, 4G075BD14
, 4G075CA02
, 4G075CA25
, 4G075DA02
, 4G075EA05
, 4G075EB01
, 4G075FB02
, 4G075FB03
, 4G075FB04
, 4G075FB06
, 4G075FC11
, 4G075FC15
, 4K018BA00
, 4K018BA20
, 4K018BC28
, 4K046HA00
, 4K046JD01
, 4K046JD03
, 4K046JD05
, 4K063FA04
, 4K063FA07
, 4K063FA36
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