特許

J-GLOBAL ID：200903052705451104

光磁気記録媒体の再生方法および光磁気記録媒体

発明者： 吉成 次郎 ,  宮崎 真司 ,  井上 弘康
出願人/特許権者： ティーディーケイ株式会社
代理人 (1件)： 石井 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-108090
公開番号（公開出願番号）：特開平10-289503
出願日： 1997年04月10日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：

【要約】【課題】 複層構造の磁性層を有し、記録磁区を転写拡大して再生する構成の光磁気記録媒体において、交番磁界を印加することなしに再生を可能とする。【解決手段】 基体表面側に、増幅層A1、制御層C2および記録層R3の3層の磁性層をこの順で有し、R3に磁区が形成されている光磁気記録媒体を再生するに際し、まず、再生磁界を一方向に印加しながらレーザービームを照射し、これによる温度上昇によってR3の磁区をC2からA1へと順次転写して転写磁区を形成し、再生磁界によりA1の転写磁区を拡大し、次いで、A1の拡大された転写磁区を読み出した後、照射を停止または照射パワーを減少させることにより、A1およびC2の転写磁区を消滅させる。このような光強度変調による再生を行うために、各磁性層間の界面磁壁交換力磁界などを制御する。

請求項（抜粋）：

基体表面側に、増幅層A1、制御層C2および記録層R3の3層の磁性層をこの順で含む磁性積層体を有し、光磁気記録により記録層R3に磁区が形成されている光磁気記録媒体を再生する方法であって、一方向の磁界である再生磁界を磁性積層体に印加しながら、レーザービームを照射し、レーザービーム照射による温度上昇によって記録層R3の磁区を制御層C2から増幅層A1へと順次転写して転写磁区を形成し、再生磁界により増幅層A1の転写磁区を拡大し、次いで、増幅層A1の拡大された転写磁区を読み出した後、レーザービームの照射を停止またはパワーを減少させることにより、増幅層A1および制御層C2の転写磁区を消滅させる過程を有する光磁気記録媒体の再生方法。

IPC (2件)：

G11B 11/10 586 ,  G11B 11/10 506

FI (2件)：

G11B 11/10 586 C ,  G11B 11/10 506 A