特許

J-GLOBAL ID：200903052708708823

研磨制御装置

発明者： 富田 克彦 ,  大山 信也 ,  江▲崎▼ 城一朗
出願人/特許権者： テイーデイーケイ株式会社
代理人 (1件)： 三澤 正義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-192277
公開番号（公開出願番号）：特開平5-036031
出願日： 1991年07月31日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、研磨対象物の研磨領域の研磨動作と寸法管理を適確に行う研磨制御装置を提供する。【構成】 本発明の研磨制御装置1は、研磨領域を下端側に臨ませ、また、下端面からの距離を異ならせた任意数の導電パターンを備え、回転駆動される治具5により支持された薄膜磁気ヘッド集合体と、回転駆動され薄膜磁気ヘッド集合体の研磨領域及び各導電パターンを接触研磨する研磨盤2と、治具5上に配置され研磨盤2と各導電パターンとの段階的な導通を検出し、光信号として送出する発光素子及び受光素子を含む導通検出手段11と、この導通検出手段11からの光信号を基に研磨レート等を計算する信号処理手段38と、この信号処理手段の出力を基に治具5及び研磨盤2を制御し薄膜磁気ヘッド集合体の研磨領域寸法を所定値とする制御手段13とを有する。この構成により、研磨領域の研磨と寸法管理とを同時に、かつ、正確に行うことができる。

請求項（抜粋）：

ポール部及びヨーク部を有する任意数の電磁変換素子を端部に有し、研磨領域を下端側に臨ませるとともに下端面からの距離を異ならせた任意数の導電パターンを備え、回転駆動される導電性の治具により支持された薄膜磁気ヘッド集合体と、回転駆動され前記治具により支持された薄膜磁気ヘッド集合体の研磨領域及び前記各導電パターンを接触研磨する導電性の研磨盤と、前記治具上に配置され前記研磨盤と各導電パターンとの段階的な導通を検出して検出結果を光信号として送出する発光素子と、この発光素子の前記光信号を非接触で取込んで前記各導電パターンの段階的な導通に応じた信号を送出する受光素子とを有する導通検出手段と、この導通検出手段からの信号を基に研磨レート,研磨傾きを計算する信号処理手段と、この信号処理手段の計算結果を基に前記治具及び研磨盤の駆動制御を行い薄膜磁気ヘッド集合体を目的のスロートハイト寸法に研磨する制御手段とを有することを特徴とする研磨制御装置。