特許
J-GLOBAL ID：200903052710555350
光学素子の製造方法、光学素子、照明光学装置、表示装置および電子機器
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
宮崎 昭夫
, 石橋 政幸
, 緒方 雅昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-215887
公開番号（公開出願番号）：特開2008-116913
出願日： 2007年08月22日
公開日（公表日）： 2008年05月22日
要約：
【課題】透明層の密度分布を生じさせず、歩留まりの低下を来すことなく、かつ、マイクロルーバの透明層と光吸収層との境界面の平面度を確保することが可能な、所定の配光特性を有する光学素子を製造することができる光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の光学素子の製造方法は、透明感光性樹脂51上にマスクを配置する工程と、マスクを介して透明感光性樹脂51に露光光を照射してパターニングすることで透明層51bを形成する工程と、透明層51bの間に黒色硬化性樹脂53を充填することで光吸収層を形成する工程とを有し、露光光をマスク52のマスク面52aに対して斜め方向に照射する第1の照射工程を含む。【選択図】図1A
請求項（抜粋）：
透明感光性樹脂上にマスクを配置する工程と、
前記マスクを介して前記透明感光性樹脂に露光光を照射してパターニングすることで透明層を形成する工程と、
前記透明層の間に黒色硬化性樹脂を充填することで光吸収層を形成する工程と、
前記露光光を前記マスクのマスク面に対して斜め方向に照射する第1の照射工程と、を含む、
前記透明層と前記光吸収層とを平面内で交互に配置し、前記透明層を透過する光の出射方向の範囲が前記光吸収層によって制限される光学素子の製造方法。
IPC (6件)：
G02B 5/00
, G02F 1/133
, F21V 8/00
, F21V 3/00
, F21V 11/00
, G09F 9/00
G02B5/00 B
, G02F1/1335
, F21V8/00 601A
, F21V3/00 530
, F21V11/00
, G09F9/00 313
, G09F9/00 324
2H042AA09
, 2H042AA11
, 2H042AA15
, 2H042AA26
, 2H091FA34X
, 2H091FB02
, 2H091FC10
, 2H091LA30
, 5G435AA01
, 5G435AA17
, 5G435BB12
, 5G435CC09
, 5G435EE27
, 5G435FF14
, 5G435GG17
, 5G435KK07
, 5G435LL17
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
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