特許

J-GLOBAL ID：200903052711107865

ガス置換方法及び装置、並びに露光方法及び装置

発明者： 岩崎 雅弥
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-071211
公開番号（公開出願番号）：特開2001-267200
出願日： 2000年03月14日
公開日（公表日）： 2001年09月28日
要約：

【要約】【課題】 基板とこの基板に枠部材を介して装着された薄膜との間に形成される空間内のガスを効率良く安定して置換することができるガス置換方法及びガス置換装置、並びに露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】 マスクMとペリクルPEとの間に介装されるペリクル枠PFは複数の通気孔h1〜h4を有しており、ガス置換装置Cは、一部の通気孔h1、h2が設置される第1室81と、他の通気孔h3、h4が設置される第2室82と、第1室81を特定ガスによって加圧するガス供給装置83と、第2室82を空間GSの圧力より減圧する減圧装置84とを備えている。したがって、マスクMとペリクルPEとの間に形成された空間GS内のガスを効率良く特定ガスに置換することができる。

請求項（抜粋）：

基板と該基板に枠部材を介して装着された薄膜との間に形成される空間内を所定のガスに置換するガス置換方法において、前記枠部材は、前記空間内と外部とを連通する複数の開口部を備えており、前記複数の開口部のうち、一部の開口部を第1室内に設置するとともに、他の開口部を第2室内に設置し、前記第1室に前記所定のガスを充填するとともに、該第1室内の圧力を前記第2室内の圧力に対して高く設定することを特徴とするガス置換方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/20 502

FI (3件)：

G03F 1/14 J ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/30 516 F

Fターム (15件)：

2H095BA07 ,  2H095BB30 ,  2H095BB31 ,  2H095BC31 ,  2H097BA02 ,  2H097BA04 ,  2H097CA13 ,  2H097JA02 ,  2H097LA10 ,  5F046AA22 ,  5F046BA03 ,  5F046CA08 ,  5F046CB17 ,  5F046DA01 ,  5F046DA27