特許
J-GLOBAL ID：200903052718007424
露光方法及び装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
飯塚 雄二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-291917
公開番号（公開出願番号）：特開平9-115817
出願日： 1995年10月13日
公開日（公表日）： 1997年05月02日
要約：
【要約】【課題】 高いアライメント精度を維持しつつ、スループットを向上させること。【課題を解決するための手段】 過去のアライメント条件及びアライメント誤差を層毎に記憶しておく。そして、記憶されている情報の内、新たに露光する基板の層の露光条件に対応する過去のアライメント条件及びアライメント残留誤差を読み出す。そして、読み出された情報に基づいて、当該基板の新たなアライメント条件を求める。
請求項（抜粋）：
基板上の複数の層にそれぞれ重ね合わせて形成したパターンの少なくとも1つとマスク上のパターンとをアライメントし、前記基板の最上層に前記マスク上のパターンの像を形成する露光方法において、前記複数の層にそれぞれ形成されたパターン間のアライメント誤差を、前記層毎に露光及びアライメントに関する条件に対応付けて記憶し、前記最上層に対して設定された露光条件に対応する前記複数の層の内の少なくとも1つにおける、前記記憶されたアライメント誤差とそれに対応するアライメント条件とを読み出し、該読み出された情報に基づいて前記最上層でのアライメント条件を算出し、該算出されたアライメント条件に従って前記基板上の少なくとも1つのパターンと前記マスク上のパターンとをアライメントすることを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 525 X
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 525 W
