特許
J-GLOBAL ID:200903052727719160

光ディスク作製方法及びその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小鍜治 明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-054549
公開番号(公開出願番号):特開平6-267116
出願日: 1993年03月16日
公開日(公表日): 1994年09月22日
要約:
【要約】【目的】 成形から保護膜形成までの一連の光ディスクの作製工程において、成形機の金型から取り出したディスクを常に一定の低い温度の状態で薄膜ならびに保護膜の形成が行えるようにすることにより、光ディスクの反り量を常に小さくする事が出来、従って常に高精度で高品質の光ディスクを作製出来るようにする。【構成】 光ディスクの作製工程において、各装置間で同期をかけ全ての装置を連動動作するようにするとともに、成形機から取り出したディスクの温度を測定しながら冷却用のエアーあるいはガス等を吹き付け、予め設定した温度になるまで冷却し、冷却後すぐに薄膜ならびに保護膜形成出来るようにするものである。
請求項(抜粋):
光ディスクを複製するための成形機と、成形機からディスクを取り出すための取り出し装置と、ディスクを冷却するための冷却装置と、ディスクに薄膜を形成するためのスパッタ装置と、薄膜上に保護膜を形成するためのコータ装置と、ディスクを収納するための収納装置により光ディスクを作製することを特徴とする光ディスク作製方法。

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