特許

J-GLOBAL ID：200903052737872810

ピットレベルの低い支持体材料

発明者： ギュンター ラーベ
出願人/特許権者： フェリックス シェラー ユニオール フォト- ウント スペチアルパピーレ ゲー エム ベー ハー ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 森田 憲一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-077940
公開番号（公開出願番号）：特開平11-320680
出願日： 1999年03月23日
公開日（公表日）： 1999年11月24日
要約：

【要約】【目的】高製造速度において、高い光沢度及び低いピットレベルによって特徴付けられるポリオレフィン被覆支持体材料を提供する。【構成】粗さRzの標準偏差が0.050μm〜0.120μmであって電解的に構造化した表面を有する冷却ロールを用いて製造する。

請求項（抜粋）：

粗さRzの標準偏差が0.050μm〜0.120μmであって電解的に構造化した表面を有する冷却ロールで、表面に形が付与された、ポリオレフィン被覆支持体材料。

IPC (2件)：

B29C 59/04 ,  G03C 1/79

FI (2件)：

B29C 59/04 C ,  G03C 1/79

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭62-161147
  
• 特公昭62-019732
  
• 特開昭62-161147