特許
J-GLOBAL ID：200903052738970980
膜反応器システム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-004740
公開番号（公開出願番号）：特開2003-206104
出願日： 2002年01月11日
公開日（公表日）： 2003年07月22日
要約：
【要約】【課題】 窒素貯蔵手段を備えることなく、燃料改質に用いる膜反応器のパージを行うことができる膜反応器システムを提供する。【解決手段】 水蒸発器4は、原燃料である水蒸気を発生させると共に、連通バルブ27を介して改質触媒層11及び純水素層10に温度調整された水蒸気を供給する。コンプレッサ23の圧縮空気はエアパージバルブ25、供給バルブ26を介して改質触媒層11及び純水素層10に供給される。コントローラ37は、膜反応器9を停止させる時に、水素分離膜12付近の温度が所定の温度以下とならないように改質触媒層11及び純水素層10に水蒸気を供給して水素を全てパージした後、改質触媒層11の触媒活性化温度未満の水蒸気を供給し、改質触媒層11の温度が触媒活性化温度未満になった時点で水蒸気供給を停止する一方、空気を供給し、水分をパージした後に空気供給を停止する。
請求項（抜粋）：
原燃料を改質して改質ガスを生成する改質触媒層と、改質ガス中の水素を分離する水素分離膜と、水素分離膜により改質触媒層から分画された純水素層と、改質触媒層を加熱する燃焼器とを備えた膜反応器と、水素分離膜付近の温度を検出する分離膜温度検出手段と、改質触媒層の温度を検出する触媒温度検出手段と、改質触媒層及び純水素層に温度調整された水蒸気を供給する水蒸気供給手段と、改質触媒層及び純水素層に空気を供給する空気供給手段と、分離膜温度検出手段及び触媒温度検出手段の検出結果に基づいて改質触媒層及び純水素層に水蒸気供給手段及び空気供給手段からの水蒸気及び空気の供給を制御する制御手段と、を備えた膜反応器システムであって、前記制御手段は、改質反応を停止させる時に、水素分離膜付近の温度が所定の温度以下とならないように改質触媒層及び純水素層に水蒸気供給手段から水蒸気を供給して水素を全てパージした後、改質触媒層の触媒活性化温度未満の水蒸気を供給し、改質触媒層の温度が触媒活性化温度未満になった時点で水蒸気供給手段からの水蒸気の供給を停止する一方、改質触媒層と純水素層に空気供給手段から空気を供給し、水分をパージした後に空気供給を停止することを特徴とする膜反応器システム。
IPC (3件)：
C01B 3/38
, C01B 3/56
, H01M 8/06
C01B 3/38
, C01B 3/56 Z
, H01M 8/06 G
4G040EA03
, 4G040EA06
, 4G040EB22
, 4G040EB33
, 4G040EB43
, 4G040FA02
, 4G040FB09
, 4G040FC01
, 4G040FE01
, 5H027AA02
, 5H027BA01
, 5H027BA16
, 5H027DD00
, 5H027KK10
, 5H027KK42
, 5H027MM12
